GKS-2光刻朹�/h1>

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• 供货总量�?/li>
• � � �?/span>上海
• 联系人：赵东汳�/strong>先生(市场部经�?

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供应商信�?/p>

上海实博实业有限公司

主营产品９�/span>
材料线膨胀系数测试�?/a>可见分光光度讠�/a>高温超导材料多功能激光全息测试仪胀系数测定�?/a>物理演示实验设备近代物理实验设备磁滞回线及磁化曲线测定仪力学综合

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GKS-2光刻机的详细描述９�/h5>

GKS-2光刻朹�/span>

本机是制造中、大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备、�/span>

主要技术参�?/span>

1、适用的掩模尺寸：⑟�/span>100��100��2｝�/span>3mm　①�/span>75��75��2｝�/span>3mm　②�/span>63��63��2｝�/span>3（选购（�strong>

2、适用的硅片尺寸：��35�?Phi;75mm

3、光刻图形线条：3｝�/span>4um，最细可�?um

4、掩模与硅片之间的相对位移范围：X/Y��2.5mm，（旋转�?plusmn;6��

5、承片台（硅片）绕主轴旋转：粗调360度，可微谂�strong>

6、承片工作台综合移动范围：X,Y合成��75mm

7、承片台的球座平面至掩模板面升降�?｝�/span>7.5mm

8、曝光灯源：GCQ200W超高压汞灯，曝光波长�?00｝�/span>436nm

9、曝光系统能量不低于�?mw

10、曝光系统的照度均匀度在��75mm范围内：��5%

11、显微镜的照明波长：��545nm

12、曝光时间控制范围：0.1科�span style="color: black;">｝�/span>99刅�/span>

13、双目显微镜的放大倍数９�span style="color: black;">⑟�/span>目镜共二种：10X,16X　①�/span>平视场物镜共三种�?X,9X,15X　②�/span>合成放大倍率�?0X｝�/span>240X

14、真空接触压力：��0.7kgf

15、装箱尺寸：1000��850��980mm�?只）

16、装箱重量：210kg